紫外包万编线曝光机是指通过建重开启灯光发出UVA波长的来自紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的机器设备。

• 中文名称 曝光机
• 外文名称 Exposure machine
• 出射光强范围 8mW/cm2~40mW/cm2
• 应用对象 半导体、微电子、生物器件等

组成机构

　　UV灯构造

　　带托盘的晶棉论脸最点真续林片工作台

　　配CCD镜头的显微镜

　　监视器

　　掩膜夹具

　　UV灯透镜

　　UV灯镜片

　　UV灯电源系统

　　操作控制器

　　350W U来自V灯

　　晶片台

　　基底尺寸 标准搞铁策跑迅尺寸 最大至4英寸;可选最大至6英寸;

　　托盘 标准尺寸 最大至4360百科英寸;可选最大至6英寸;

　　活动范围:X:10mm Y: 10mm Z : 10m线m Theta: 4 degree

　　挤入补偿 Air bearing型

　　Z轴滑动 手动

　　真空泵 无油真空泵

　　掩膜台

　　掩膜夹具类型 真空吸附和机械夹取

　　均匀光束大小 4挥达.25" X 4.25"

　　支持接近式曝光，各种接触式(真空接触、软接触、硬接触等)曝光

　　接触式曝光特征尺寸:

　　0.35 um@深紫外D丝少等轴皮进数核证UV:

　　0.5um@近紫外NUV;

　　0.6um@紫外UV;

　　接近式曝光特征尺寸:

　　1um @ Gap为20 um;

　　2um @ Gap为50 um;

用途

　　更广范围(UV，DUV，NUV)的紫外光波长选择，出射光强范围: 8mW/cm2~40mW/cm2

　　支持恒定光强或恒定功率模式

　　广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领。

　　常见曝光机企布办住重找静货直火举例:MYCRO美国制造的恩科优(N&Q)紫外曝光系统，适用于从特殊大小的基片与松奏顾侵观到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。NXQ400-6系统成功地应用马讨异门李于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸罗或覆晶设备和其他要求式无精细印制和精度对准的应用。